全自動磁控濺射系統（MagnetronSputteringSystem）是一種廣泛應用于材料表面處理和薄膜沉積的設備，常用于電子、光學、半導體、太陽能、傳感器、裝飾等行業。濺射技術通過將高能離子轟擊目標材料，使目標材料原子或分子濺射到基材表面，從而形成均勻的薄膜層。磁控濺射系統則在傳統磁控濺射設備的基礎上，結合了自動化控制技術，提升了生產效率、薄膜質量以及操作的便捷性。全自動磁控濺射系統的工作原理：1.等離子體的形成：在真空室內，電源提供高電壓（一般為幾百伏特）在靶材和基材之...

ICP等離子刻蝕機的工作原理基于利用射頻電源在反應室內產生高密度的等離子體，這些等離子體包含大量的活性粒子，如離子、電子、自由基等。在強電場的作用下，這些活性粒子與被加工的材料表面發生物理或化學反應，從而實現材料的去除。ICP等離子刻蝕機的技術特點：1.高密度等離子體源：采用感應耦合方式產生高密度等離子體，提高了刻蝕速率和均勻性。2.良好的各向異性：由于等離子體的方向性較強，ICP刻蝕機能夠實現高各向異性的刻蝕，有利于深寬比大的微結構的制備。3.寬工藝窗口：ICP刻蝕機能夠在...

飛行時間二次離子質譜（TimeofFlightSecondaryIonMassSpectrometry，TOF-SIMS）是通過高能量的一次離子束轟擊樣品表面，使樣品表面的原子或原子團吸收能量而從表面發生濺射產生二次粒子,這些帶電粒子經過質量分析器后就可以得到關于樣品表面信息的圖譜。SIMS用于在超高真空條件下分析固體樣品中元素、分子和同位素的分布和相對濃度，是zui靈敏的表面分析技術之一。SIMS可用于成像、光譜分析和深度剖面/三維分析。光譜分析模式可用于評估聚合物涂層的組...

全自動磁控濺射系統是一種利用磁場控制電子運動軌跡，使電子與靶材發生碰撞并濺射出原子或分子，從而在基片上形成薄膜的設備。與傳統的磁控濺射設備相比，在結構上增加了自動化控制系統，能夠實現對整個濺射過程的精確控制和自動化操作。主要由真空室、磁控濺射源、基片加熱器、真空測量與控制系統以及自動化控制系統等部分組成。其中，自動化控制系統是核心部分，它通過接收傳感器的信號，實時監測濺射過程中的各項參數（如真空度、溫度、電流等），并根據預設的程序自動調整各項參數，以保證薄膜的質量和一致性。廣...

二次離子質譜法是一種高效的分析技術，利用化合物的離子化過程及其質量分析，以確定待測化合物的分子量、分子式和結構特征。質譜儀作為該方法的重要組成部分，通過將離子的質量進行有效分離，并依據電荷與質量比率輸出至檢測器，在此被探測并轉換為數字信號。簡介在質譜分析中，有三種常見的質譜儀離子分析器可用于離子的分離。四極桿質譜儀飛行時間質譜儀磁扇形質量分析儀四極桿質譜儀直流偏壓會使所有帶電分子加速并遠離中心線，其速度與它們的電荷與質量比成正比。當這些分子的軌跡偏離過大時，它們將撞擊金屬棒或...

TOF-SIMS（TimeofFlightSecondaryIonMassSpectrometry）飛行時間二次離子質譜儀的基本組件包括一次離子束，和用于樣品深度剖析的離子束。主離子束被脈沖化以供飛行時間質譜儀進行分析使用。鉍基液態金屬離子槍（LMIGs）是商業ToF-SIMS中常用的離子源。與金等其他LMIG源相比，鉍基離子源可以在較低的溫度下工作，并能產生用于分析的離子簇（例如Bi3+）。這些離子束可以緊密聚焦，以實現高空間分辨率(亞表面分析可通過在雙束模式操作來實現，包...

全自動磁控濺射系統是一種利用磁場控制等離子體濺射技術在基材上沉積薄膜的材料制備設備。廣泛應用于半導體、光電、材料科學、裝飾鍍膜等領域，用于生產各種功能性和裝飾性薄膜。通過精確控制濺射過程中的各種參數，實現了高效率、高穩定性和高質量的薄膜沉積。工作原理基于濺射效應，即在真空環境下，通過電場加速的氣體離子（通常是氬離子）轟擊靶材，使靶材原子或分子被轟擊出來，然后沉積在基材上形成薄膜。磁控部分則是通過靶材背后的磁場設計，有效延長了電子在等離子體中的運動路徑，提高了氣體離化率和濺射效...

靜態SIMS是一種非常靈敏的表面分析技術，能在只消耗樣品單層一小部分的情況下，獲得詳細的質譜圖。被分析的分子來自固體表面前幾層，這對于探討材料關鍵區域例如附著力或催化等性質至關重要。Kore公司的TOF-SIMSSurfaceSeer系列產品為科研和工業領域提供了高性價比的表面分析解決方案。以下數據展示了SurfaceSeer儀器在材料研究和分析方面的一些優勢。實驗質量分辨率和準確性圖1.污染鋁接頭近來，儀器的質量分辨率和準確度均已經提高到2000（M/ΔM）以上。上圖展示了...