飛行時間二次離子質譜（TOF-SIMS）是一種表面分析技術，它將脈沖一次離子束聚焦到樣品表面，在濺射過程中產生二次離子。分析這些二次離子可提供有關樣品表面的分子、無機和元素種類的信息。例如，如果表面吸附了有機污染物（如油），TOF-SIMS將揭示這些信息，而其他技術則難以實現，特別是在污染物含量極低的情況下。由于TOF-SIMS是一種測量技術，因此通常可以檢測到元素周期表中的所有元素，包括H。此外，這種分析可以提供質譜信息;樣品上XY維度的圖像信息;以及Z方向的深度剖面信息到...

什么是TOFSIMS?它可以應用于哪些領域？能提供哪些信息？哪些樣品適用（哪些不適用）？在這一系列文章中，我們將解答所有這些問題，以及更多探討。飛行時間二次離子質譜法（ToFSIMS）是一種用于研究固體表面和薄膜的三維化學組成的表面分析技術。聚焦的一次離子束轟擊目標表面，產生中性原子/分子、二次離子和電子。二次離子通過飛行時間質譜儀進行收集和分析。質譜儀通過精確測量離子到達探測器所需的時間(即“飛行時間”)來測量離子的質荷比(m/z)。通過掃描一次離子束在樣品表面的區域，可以...

二次離子質譜儀是一種強大的表面分析工具，它能夠在微觀層面上提供關于材料成分和結構的詳細信息。它的應用范圍廣泛，從材料科學到生物醫學，從半導體工業到地球科學。盡管SIMS具有許多優勢，但它的操作和維護相對復雜，需要專業的技術人員和持續的培訓。二次離子質譜儀的技術原理：1.一次離子束：一次離子束是由離子源產生的高能離子，通常使用銫離子，它們被加速到高能量并聚焦成細小的束流。2.二次離子產生：當一次離子束轟擊樣品表面時，會將表面原子或分子激發為離子，即二次離子。3.質譜分析：產生的...

空間環境模擬試驗設備是一種高精尖的實驗室設備，旨在模擬太空中的特殊環境條件，如超低溫、高真空、太陽輻射、微重力、宇宙射線、原子氧侵蝕等。這些設備對于研發和測試航天器、衛星、探測器以及其他將要在太空中使用的材料和系統至關重要。空間環境模擬試驗設備應用領域：1.航天器研制：對整星或部件進行環境試驗，驗證其性能和可靠性。2.材料研究：測試新材料在太空環境下的性能，為航天器選材提供依據。3.生命科學：研究生物組織在太空環境下的變化，為載人航天提供支持。4.物理科學實驗：在模擬的太空環...

空間環境模擬試驗設備是一種用于在地面模擬宇宙空間環境的高科技測試系統。這類設備通常用于對航天器、衛星、空間站等航天器材進行環境適應性測試，確保它們能夠在真實的外太空環境中正常工作。通過一系列的高技術手段來模擬外太空的環境。例如，使用真空泵系統來模擬太空的真空環境；利用加熱和制冷裝置來模擬溫度的特殊變化；通過紫外燈或粒子加速器來模擬太陽輻射；以及利用高速粒子噴射或機械沖擊裝置來模擬微流星體的沖擊效果。這些設備通常配備有精密的控制系統和監測儀器，以確保測試條件的精確性和重復性。空...

微波等離子去膠機是一種先進的半導體制造設備，用于去除晶圓表面的光刻膠。在半導體制造過程中，光刻是一種關鍵技術，通過它可以將電路圖案轉移到硅片上。光刻過程需要在硅片表面涂覆一層光敏材料，稱為光刻膠。在光刻過程完成后，需要將未曝光的光刻膠去除，這一步驟稱為去膠。傳統的去膠方法包括濕化學清洗和等離子清洗，但這些方法可能會對硅片表面造成損傷或者處理效率較低。等離子去膠機利用微波激發的等離子體來去除光刻膠，具有高效、環保、對硅片表面無損傷等優點。微波等離子去膠機的工作原理是利用微波能量...

微波等離子去膠機是一種先進的半導體制造設備，用于去除晶圓表面或器件上的光刻膠。在半導體制造過程中，光刻是一個關鍵步驟，它涉及到在晶圓上涂覆一層光敏材料（光刻膠），然后通過曝光和顯影來形成所需的圖案。完成這些步驟后，必須去除剩余的光刻膠，以進行后續的加工步驟。傳統的去膠方法包括濕化學清洗和等離子體灰化，但這些方法可能不夠有效、不夠環保，或者對晶圓造成損害。微波等離子去膠機的優勢：1.高效率：能夠在較短的時間內處理大量晶圓，提高生產效率。2.環境友好：相比濕化學方法，微波等離子去...

微波等離子清洗機是一種利用微波等離子技術進行清洗的設備。它將高頻微波信號通過導波管送入到介質內，產生高溫、高壓等離子體，利用等離子體的化學反應和物理作用對被清洗物體表面進行去污、去油、去氧化等處理。主要由微波發生器、微波導管、等離子體室、工件臺等部分組成。微波發生器產生高頻微波信號，經過微波導管傳遞到等離子體室內，激發氣體分子產生等離子體。等離子體室內含有惰性氣體或活性氣體，當高能粒子與物體表面發生碰撞時，可使污垢、油脂等雜質氧化分解，達到清洗效果。微波等離子清洗機的特點和優...