NANO-MASTER（那諾-馬斯特）Platens樣品臺，又稱為基板或加熱板，是真空鍍膜設備中常用到關鍵部件。因此樣品臺可以整合到RIE刻蝕、ICP刻蝕、PECVD、ALD等刻蝕和沉積設備中，給晶圓等樣片進行均勻加熱和冷卻處理，為微納米薄膜工藝提供精確的溫度環境。

NANO-MASTER Platens樣平臺

NANO-MASTER(那諾-馬斯特）Platens樣品臺，使用技術，加熱均勻性*。NANO-MASTER的樣平臺（或稱為基板、熱板）可以加入射頻偏壓、水冷卻、通過模塊控制700°C范圍的溫度。基板的高度可調節，基片可旋轉，真空腔體內沒有任何引線。任何地方不會出現短路或電弧，因為所有引線、電熱偶和冷卻水管道都保持在大氣壓下。NM樣品臺可以直接安裝到你的系統中，無論是RIE刻蝕、ICP刻蝕、ALE刻蝕，還是PECVD、ALD等沉積設備中，我們的基板都可以很方便的配套使用。

Platens樣品臺可應用的設備：

• RIE反應離子刻蝕機
• ICP感應耦合等離子刻蝕機
• ALE原子層刻蝕設備
• PECVD等離子增強化學氣相沉積設備
• ALD原子層沉積設備
• 其他設備

?尺寸：

• 1-12英寸
• 可定制

Platens不同型號對應溫度上限：

• NM-LTP，低溫熱板，z高可加熱到300°C
• NM-MTP，中溫熱板，z高可加熱到500°C
• NM-HTP，高溫熱板，z高可加熱到700°C

?Different models allow for different temperature limits:

• NM-LTP - Low Temperature Platen heatable up to 300°C
• NM-MTP - Mid Temperature Platen heatable up to 500°C
• NM-HTP - High Temperature Platen heatable up to 700°C