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NSC-3500(A)全自動(dòng)磁控濺射系統(tǒng)
聯(lián)系電話(huà):021-62318025
磁控濺射技術(shù)
NSC-3500(A)全自動(dòng)磁控濺射系統(tǒng)概述:帶有水冷或者加熱(可加熱到700度)功能,可達(dá)到6"旋轉(zhuǎn)平臺(tái),支持到3個(gè)偏軸平面磁控管。系統(tǒng)配套渦輪分子泵,極限真空可達(dá)10-7 Torr,15分鐘內(nèi)可以達(dá)到10-6 Torr的真空。通過(guò)調(diào)整磁控管與基片之間的距離,可以獲得想要的均勻度和沉積速度。
NSC-3500(A)帶有14"立方形不銹鋼腔體,3個(gè)2"的磁控管,DC直流和RF射頻電源。 在選配方面,350 l/s渦輪分子泵,額外的磁控管和襯底加熱功能。
NSC-3500(A)全自動(dòng)磁控濺射系統(tǒng)產(chǎn)品特點(diǎn):
不銹鋼腔體
260l/s或350l/s的渦輪分子泵,串接機(jī)械泵或干泵
13.56MHz,300-600W RF射頻電源以及1KW DC直流電源
晶振夾具具有的<1 ?的厚度分辨率
帶觀(guān)察視窗的腔門(mén)易于上下載片
基于LabView軟件的PC計(jì)算機(jī)控制
帶密碼保護(hù)功能的多級(jí)訪(fǎng)問(wèn)控制
*的安全聯(lián)鎖功能
預(yù)真空鎖以及自動(dòng)晶圓片上/下載片
選配項(xiàng):
RF、DC濺射
熱蒸鍍能力
RF或DC偏壓(1000V)
樣品臺(tái)可加熱到700°C
膜厚監(jiān)測(cè)儀
基片的RF射頻等離子清洗
應(yīng)用:
晶圓片、陶瓷片、玻璃白片以及磁頭等的金屬以及介質(zhì)涂覆
光學(xué)以及ITO涂覆
帶高溫樣品臺(tái)和脈沖DC電源的硬涂覆
帶RF射頻等離子放電的反應(yīng)濺射