NSC-3000（M）磁控濺射系統：帶有水冷或者加熱（可加熱到700度）功能，可達6“旋轉平臺，支持到3個偏軸平面磁控管。系統配套渦輪分子泵，極限真空可達10-7 Torr，15分鐘內可以達到10-6 Torr的真空。通過調整磁控管與基片之間的距離，可以獲得想要的均勻度和沉積速度。

磁控濺射技術

NSC-3000（M）磁控濺射系統概述：帶有水冷或者加熱(可加熱到700度)功能，可達6"旋轉平臺，支持到3個偏軸平面磁控管。系統配套渦輪分子泵，極限真空可達10^-7 Torr，15分鐘內可以達到10^-6 Torr的真空。通過調整磁控管與基片之間的距離，可以獲得想要的均勻度和沉積速度。

NSC-3000帶有12”派熱克鐘罩腔體，2個2”的磁控管，DC直流和RF射頻電源。 在選配方面，我們提供不銹鋼腔體，260 l/s渦輪分子泵，額外的磁控管和襯底加熱功能。

NSC-3000（M）磁控濺射系統產品特點：

• 不銹鋼，鋁質腔體或鐘罩式耐熱玻璃
• 70，250或500 l/s的渦輪分子泵，串接機械泵或干泵
• 13.56MHz，300-600W RF射頻電源以及1KW DC直流電源
• 晶振夾具具有的<1 ?的厚度分辨率
• 帶觀察視窗的腔門易于上下載片
• 基于LabView軟件的PC計算機控制
• 帶密碼保護功能的多級訪問控制
• *的安全聯鎖功能

選配項：

• 不銹鋼腔體
• RF、DC濺射
• RF或DC偏壓（1000V）
• 樣品臺可加熱到700°C
• 膜厚監測儀
• 基片的RF射頻等離子清洗
• 預真空鎖以及自動晶圓片上/下載片

應用：

• 晶圓片、陶瓷片、玻璃白片以及磁頭等的金屬以及介質涂覆
• 光學以及ITO涂覆
• 帶高溫樣品臺和脈沖DC電源的硬涂覆
• 帶RF射頻等離子放電的反應濺射