隨著原子層沉積技術與其他先進技術不斷融合以及人們對原子層沉積設備的不斷改進，諸如“等離子體增強原子層沉積技術”、“空間式原子層沉積技術”、“流化床原子層沉積技術”等新型原子層沉積技術逐漸出現并在一定程度上有效解決了傳統熱原子層沉積技術所面臨的諸多難題。
在過去二十多年，等離子體增強原子層沉積技術發展迅速。通過巧妙設計等離子體引入方式，人們已經設計出各種等離子體增強原子層沉積設備。
從文獻報道來看，針對太陽能光伏領域的應用，一套成熟的空間式原子層沉積設備需保證每小時超過3000片156×156mm2規格Si片的生產能力。由于空間式原子層沉積設備中沉積速率不再受限于單個循環步驟的累計時間，僅取決于襯底或前驅體噴嘴在兩個半反應區間移動所需的時間，而薄膜厚度也僅取決于噴頭上所集成的沉積單元數量，若能保證1s通過一個這樣規格的Si片，目前的設計*可以滿足工業化應用需求。此外，針對柔性襯底表面沉積時，采用轉動式的反應器設計，同樣能將沉積速率提升至1.2nm/s。
原子層沉積技術經過四十多年的發展，無論是在沉積材料的種類還是具體沉積方法的擴展與改進上，都已經取得了長足進步，在眾多領域更是展現出令人期待的商業前景。但傳統的熱原子層沉積技術在發展過程中仍面臨著一些挑戰。
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更新時間：2020-05-20 
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