我們的優勢｜磁控濺射

NANO-MASTER設計制造的磁控濺射系統在行業內有*的競爭力，設備擁有以下突出的優勢：

1. 計算機全自動控制的自動上下片，上面和對準的過程全部通過計算機控制，無需人工操作，并且不會損傷系統；

2. 全自動膜厚監控，客戶可以在軟件設定目標膜厚，整個工藝階段可以實現無人值守，無需人工介入，薄膜膜厚具有高度的重復性；

3. 出色的膜厚均勻度，對于6"片范圍內，濺射金屬膜時，可以達到優于+/-1%的均勻度；

4. 系統可以支持濺射前的等離子預清洗功能，提供優異的膜基層性能；

5. 系統支持預濺射，可以去除靶材的污染物后再打開遮板，實現高純膜濺射；

6. 全自動的工藝控制，提供20"的觸摸屏監控屏幕，可以保存不限數量的程序，每個程序支持1-100個工藝步驟；

7.分子泵與腔體采用直連設計，可以提供優異的真空傳導率。8小時即可達到5x10^-7Torr的極限真空，15分鐘達到10^-6Torr量級的工藝真空；

8. 腔體下游壓力控制，通過計算自動控制分子泵的渦輪速度，實現腔體下游壓力的全自動調節，快速穩定；

9. 緊湊型設計，包含自動上下片單元的主機總占地面積僅26"*42"，節省實驗室寶貴的空間。